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　　记者丨彭新 剪辑丨朱益民 刘雪莹

　　近期，行动半导体制造最中枢次序的光刻机赛谈走热，国产产业链相干标的在二级阛阓热度空前，A股光刻机产业链标的波动，高度诱导着阛阓的目力。

　　9月24日，21世纪经济报谈记者在上海国度会展中心举办的第二十五届中国国际工业展览会上看到，上海微电子（SMEE）展台上初次公开亮相极紫外（EUV）投影微场曝光安装，过头部分时期本色的对外流露。

　　行业脉动径直传导至二级阛阓，重迭近期半导体行业加价预期不绝催化的影响，光刻机想法涨势如虹。

　　9月24日，光刻机想法龙头张江高科（600895.SH）涨停，股价再创历史新高；同时，江丰电子（300666.SZ）涨超17%，长入化学（301209.SZ）、时尚精科（688605.SH）、洪田股份（维权）（603800.SH）、富创精密（688409.SH）涨超5%。时期线拉长，贬抑9月26日，Wind光刻机指数近一年涨幅近130%，其中9月24日创下阶段新高。

　　证据张江高科此前互动易流露音问，公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子公司22345万元，持有上海微电子公司10.779%的股权。

　　江丰电子为光刻工艺的前谈工序（千里积）提供重要材料，并为后谈工序（刻蚀）等相干成就提供精密零部件。

　　据其此客岁报流露，江丰电子研发的“半导体用多层薄壁钛合金扩散焊合阵势”，用于制备28nm以下节点的光刻机中枢冷却部件，已参加量产阶段，有望切入光刻机成就中枢部件规模。

　　关于光刻机阛阓，中航证券研报指出，中国大陆光刻机阛阓空间雄壮，但主要依赖荷兰、日本等地入口。

　　出口不竭暗影下，光刻机供给不信托性上涨，走向自主可控已无可规避。

　　待降服的高地

　　光刻机决定了半导体加工的最细线宽，通过曝光和光刻胶使晶圆名义产生电路图形，是芯片制造中最复杂的成就。成就的中枢包括光源系统、照明系统/投影光学系统以及用于保持晶圆和掩膜清醒的双工件台，其中每个系统都由数万个甚而十万多个零件组成。

　　现在阛阓上的光刻机主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代，销售结构以中低端的KrF、i-line为主，ArFi、ArF、EUV占比较小，EUV是大家光刻机的伏击发展标的之一。

　　从大家阛阓来看，阿斯麦（ASML）独占鳌头，成为惟一的一线供应商，占据大家概况以上的阛阓；旗下居品遮掩沿途级别光刻机，把持最高端的EUV阛阓。ASML 2025年二季度财报知道，其净销售额为77亿欧元，环比持平，同比增长23%；净利润为23亿欧元，环比下落约2.8%，同比增长45%。该季度，ASML的光刻机系统销售收入为56亿欧元，其中EUV销售额为27亿欧元，非EUV销售额为29亿欧元；当季售出EUV 11台、DUV 64台。

　　ASML除外，日本光刻机双雄尼康、佳能的阛阓份额仅在个位数盘桓。尼康凭多年积贮勉守二线，佳能位居第三；两者出货亦以进修制程成就为主。佳能主要连合在i-line规模，并在时期上押注纳米压印光刻；尼康除EUV外均有涉猎。

　　与外洋龙头比较，国产光刻机举座仍有彰着距离。

　　东兴证券研报指出，光刻机国产化率仅2.5%，上海微电子为国产光刻机通盘龙头。现在，上海微电子是中国第一家亦然惟逐个家光刻机厂商，出货量占国内阛阓份额跨越80%，居品主要触及ArF、KrF和i-line规模，已具备90nm及以下的芯片制造才智。

　　华金证券以为，在居品上，上海微电子对标佳能，齐用于进修制程，浸没式居品暂未推出。现在，上海微电子已量产光刻机主要有SSX600、SSX500、SSB300、SSB200小Mask、SSB200大Mask等系列。其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机接受四倍削弱倍率的投影物镜、工艺自顺应调焦调平时期，以及高速高精的自减振六解放度工件台/掩膜台时期。

　　“零到一”温存预期升温

　　由于地缘政事成分，中国大陆的芯片产线无法买到ASML分娩的EUV，制程上一直过期于台积电，现在，阛阓对国产光刻机产业链杀青温存的盼愿在急剧升温。

　　东兴证券研报指出，现在，中国光刻机制造商在面临时期挑战和供应链问题时，产能和产量仍然受限。

　　近些年中国光刻机国产化进度加速，产业得回一定发展，但与国际当先水平比较仍存在时期限制，尤其是高端光刻机时期受制于国外供应商，需要凹凸游齐心合力攻坚。

　　国内光刻机产业链主要包括上游成就及配套材料、中游光刻机系统集成和分娩，以及下流光刻机运用三大次序。

　　华金证券研报知道，光刻机产业链中“卡脖子”次序，时期积贮较深或已径直/辗转参加ASML/上海微电子等供应链的厂商包括：芯碁微装（688630.SH，直写光刻）、富创精密（零部件）、炬光科技（688167.SH，光学器件）、赛微电子（300456.SZ，物镜）、波长光电（301421.SZ，光源）、奥普光电（002338.SZ，整机）、腾景科技（688195.SH，光学器件）、福晶科技（002222.SZ，光源）、茂莱光学（688502.SH，光源）、电科数字（600850.SH，磋商/贬抑模块）、新莱应材（维权）（300260.SZ，零部件）、好意思埃科技（688376.SH）/蓝英装备（300293.SZ）（洁净成就）、同飞股份（300990.SZ）/海立股份（600619.SH）（温控）、东方嘉盛（002889.SZ，工作）、上海微电子（整机，未上市）、华卓精科（工件台，未上市）。

　　21世纪经济报谈记者梳剪发现，现在，我国在光刻机各细分时期规模均有储备。

　　针瞄准分子激光光源，科益虹源主要研发248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器等；福晶科技研发KBBF晶体；中科院研发40瓦干式准分子激光光源。针对光学镜头，国望光学研发90nm节点ArF光刻机曝光光学系统、110nm节点KrF光刻机曝光光学系统；中科科仪研发直线式劳埃透镜镀膜安装、纳米聚焦镜镀膜安装等。

　　需要防备的是，“光刻机”在不同语境下可能指代用于芯片制造的高端光刻机，也可能是用于PCB（印刷电路板）等规模的直写光刻成就（LDI）。

　　21世纪经济报谈记者防备到，近期A股多家上市公司在互动易或公告中流露了自己在光刻机或半导体规模的关联布局。

　　4月14日，国林科技（300786.SZ）在互动平台暗意，现在公司电子级超纯臭氧气体发生器和半导体级高浓度臭氧水系统成就部分型号已得回小批量订单，占主贸易务收入比重较小。此前，公司称臭氧在电子工业规模可被平素用于变成CVD和ALD薄膜、氧化物滋长、光刻胶去除和多种清洁运用。

　　9月18日，南京化纤（600889.SH）公告称，行动南京工艺的惟一推动，将通过更始后的处治结构对南京工艺业务、财富推论有用管控。比年来南京工艺积极拓展高端阛阓，已在多个高端运用规模得回温存。在半导体规模，南京工艺现在已为光刻机、刻蚀机、封装成就以及晶圆搬运等场面提供配套。

　　9月19日，波长光电（301421.SZ）在回话投资者发问中称，公司主营种种光学元件、组件及系统决议，为整机成就、仪器厂家提供配套，部分居品可运用于半导体成就上，但公司暂不掌执末端的具体信息，且现在公司在半导体规模的营收范围较小。关于拓展相干行业的客户群体，基于守秘性原则，无法见告具体信息。

　　9月25日，捷众科技（873690.BJ）流露，公司客户浙江启尔机电专注于高端半导体装备超洁净流控系统过头重要零部件的研发、分娩和销售，为光刻机提供超洁净流体处理成就。

　　需要明确的是，单点时期温存和单个公司的研发仍难以让国产光刻机翻开阵势。参看ASML发展历史，其与凹凸游产业链龙头公司密致和解，产学研潜入发展带动了时期调动。

　　中航证券指出，光刻机行动高壁垒、重成本、高风险的行业，其发展有赖“举国体制”之力，需要国度牵头、科研院所与重要公司参与，方可杀青供应链自主可控。而行动国内光刻机发展风向标的上海微电子和几大院所的科技研发后果，尤其值得恒久暄和。

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